I produttori cinesi di microchip si sono rivolti al governo chiedendo di creare un'analisi domestica di ASML.

I leader del settore dei semiconduttori cinesi chiedono una coordinazione nazionale per lo sviluppo della litografia EUV (2026–2030)

Nel documento pubblicato nell’ambito di un numero speciale, i dirigenti delle più grandi aziende cinesi nel campo della microproduzione hanno presentato un piano d’azione unico. L’obiettivo è sincronizzare gli sforzi per lo sviluppo dei sistemi di litografia e così aumentare l’indipendenza tecnologica del paese.

Chi ha parlato
Breve contenuto dell’intervento
Zhao Jinzong (Naura Technology Group) Ha invitato a unire le risorse nazionali per integrare i progressi ottenuti in diversi istituti.
Chen Nansyan (Yangtze Memory Technologies Corp.) Ha ritenuto necessario creare una “ASML cinese” per superare la barriera delle forniture esterne e aumentare l’autosufficienza.
Liu Weiping (Empyrean Technology) Ha sottolineato l’importanza della distribuzione di fondi e risorse umane per creare un’azienda integrata.

Rappresentanti dei principali istituti dell’industria dei semiconduttori
Hanno evidenziato le aree critiche: software per l’automazione del design, materiali delle lastre di silicio e tecnologie a gas.

Perché è così importante ora
* Le restrizioni all’esportazione degli Stati Uniti (dal 2020) limitano l’accesso della Cina alle tecnologie inferiori a 7 nm, rendendo la litografia EUV cruciale.
* ASML è l’unico fornitore mondiale di macchine per la litografia EUV. L’attrezzatura è composta da 100 000 componenti provenienti da 5 000 fornitori; ASML li monta solo.
* Progressi interni: la Cina ha ottenuto successi significativi in settori specifici (laser EUV, produzione di lastre di silicio, sistemi ottici), ma l’integrazione di queste tecnologie rimane una sfida complessa.

Direzioni chiave del lavoro
1. Creare una piattaforma unificata per la ricerca e lo sviluppo di dispositivi e componenti all’avanguardia.
2. Sviluppare software per l’automazione del design elettronico.
3. Rafforzare le scienze dei materiali: produzione di lastre di silicio ad alta qualità e gas necessari per la litografia EUV.
4. Stabilire una coordinazione nazionale nell’ambito del piano quinquennale (15ª pianificazione).

Valutazione della situazione attuale
* La Cina detiene circa il 33 % del mercato mondiale della microproduzione nei processi maturi (28 nm e superiori).
* In questi segmenti, il paese ha un potenziale significativo sia nel design che nella produzione.

In conclusione gli esperti chiedono al governo di sviluppare urgentemente piani per l’integrazione di tutti i componenti chiave della litografia EUV. Ciò permetterebbe di creare una propria “ASML” e garantire l’indipendenza della Cina nelle tecnologie microproduzione critiche.