ASML prevede un'ampia applicazione della tecnologia High‑NA EUV già l’anno prossimo per la produzione di chip con dimensioni dei transistor pari a 1,4 nm o inferiori.
Breve riassunto Il nuovo stadio di miniaturizzazione dei circuiti richiede l’adozione di metodi di litografia più avanzati. Nei prossimi due anni il settore dovrebbe avviare la pr...